CIQTEK exposera au salon Microscopy & Microanalysis 2025 aux États-Unis
CIQTEK exposera au salon Microscopy & Microanalysis 2025 aux États-Unis
July 09, 2025
CIQTEK
est heureux d'annoncer notre prochaine participation à
Microscopie et microanalyse (MM) 2025
, qui se tiendra du 27 au 31 juillet au Salt Palace Convention Center de Salt Lake City, dans l'Utah, aux États-Unis. Cette conférence annuelle est l'un des événements mondiaux les plus importants dans le domaine de la microscopie, réunissant des chercheurs de premier plan, des développeurs d'instruments et des spécialistes d'applications.
Stand CIQTEK n° 1303
Sur notre stand, les visiteurs auront l'occasion d'explorer les derniers développements de CIQTEK en matière de
microscopie électronique
, y compris nos systèmes SEM et FIB de nouvelle génération. Que vous recherchiez une imagerie haute résolution, une utilisation intuitive ou des performances fiables, nos solutions sont conçues pour répondre aux besoins des chercheurs et des utilisateurs industriels.
Notre partenaire américain de confiance, JH Technologies, sera également présent au stand n° 1403, offrant des conseils localisés, un support technique et un aperçu de la manière dont les produits CIQTEK servent les laboratoires à travers
Amérique du Nord
.
Nous sommes impatients de rencontrer des professionnels scientifiques, des collaborateurs et des passionnés de microscopie à Salt Lake City pour partager des idées, explorer des possibilités et établir des partenariats durables.
Réservez la date et rendez-nous visite au MM2025 !
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Grande vitesse Émission de champ entièrement automatisée Microscope électronique à balayage Poste de travail CIQTEK HEM6000 des technologies d'installations telles que le canon à électrons à courant à faisceau large et haute luminosité, le système de déviation de faisceau d'électrons à grande vitesse, la décélération de l'étage d'échantillonnage à haute tension, l'axe optique dynamique et l'objectif combiné électromagnétique et électrostatique à immersion pour obtenir une acquisition d'image à grande vitesse tout en garantissant une résolution à l'échelle nanométrique. Le processus automatisé est conçu pour des applications telles qu'un flux de travail d'imagerie haute résolution de grande surface plus efficace et plus intelligent. Sa vitesse d'imagerie est plus de cinq fois supérieure à celle d'un microscope électronique à balayage à émission de champ (FESEM) classique.
Ultra haute résolution Microscope électronique à balayage à filament de tungstène Le CIQTEK SEM3300 Microscope électronique à balayage (MEB) Il intègre des technologies telles que l'optique électronique « Super-Tunnel », les détecteurs d'électrons intégrés à la lentille et les objectifs composés électrostatiques et électromagnétiques. En appliquant ces technologies au microscope à filament de tungstène, la limite de résolution historique de ce type de microscope est dépassée, permettant ainsi à ce dernier d'effectuer des analyses basse tension auparavant réservées aux microscopes à émission de champ.
Microscope électronique à transmission (TEM) à émission de champ 120 kV 1. Espaces de travail divisés : Les utilisateurs utilisent le TEM dans une pièce divisée avec un confort réduisant les interférences environnementales sur le TEM. 2. Efficacité opérationnelle élevée : le logiciel désigné intègre des processus hautement automatisés, permettant une interaction TEM efficace avec une surveillance en temps réel. 3. Expérience opérationnelle améliorée : Équipé d'un canon à électrons à émission de champ avec un système hautement automatisé. 4. Haute extensibilité : Il existe suffisamment d'interfaces réservées aux utilisateurs pour passer à une configuration supérieure, qui répond à diverses exigences d'application.
Microscopie électronique à balayage à émission de champ à ultra-haute résolution (FESEM) Le CIQTEK SEM5000X Il s'agit d'un microscope électronique à fluorescence à ultra-haute résolution (FESEM) doté d'une conception optimisée de la colonne optique électronique, réduisant les aberrations globales de 30 %, pour une résolution ultra-élevée de 0,6 nm à 15 kV et 1,0 nm à 1 kV. Sa haute résolution et sa stabilité en font un outil précieux pour la recherche sur les matériaux nanostructuraux avancés, ainsi que pour le développement et la fabrication de puces semi-conductrices de haute technologie.